Camada Fina de Wafer de Silício

Camada Fina de Wafer de Silício

Fornecemos uma linha abrangente de wafers de silício semicondutores de alta-pureza, cobrindo todos os diâmetros padrão, desde2 polegadas a 12 polegadas (50 mm - 300 mm). Nossa linha de produtos foi projetada para dar suporte a uma ampla gama de necessidades de fabricação, desde pesquisa especializada e suporte a dispositivos legados até fabricação de circuitos integrados (IC) de próxima-geração de alto-volume.

Versatilidade-de tamanho total:Não importa se você precisa de wafers de pequeno-diâmetro (2", 3", 4", 5", 6") para MEMS e dispositivos discretos ou substratos de grande-escala (8", 12") para lógica e memória avançadas, oferecemos qualidade de nível-consistente de semicondutores em todos os níveis.

Controle preciso de camada fina-:Nossos wafers apresentam uniformidade de espessura superior e planicidade de superfície em nível-atômico, otimizados especificamente para processos de crescimento epitaxial e CVD, PVD e-de alta precisão.

Base de fabricação confiável:Projetado para máxima estabilidade térmica e integridade mecânica, garantindo resultados de produção estáveis ​​e alta confiabilidade do dispositivo sob condições extremas.

Foco estrito na aplicação:100% focado emaplicações de semicondutores-eletrônicos(Dispositivos de Potência, RF, IC, Sensores). Mantemos uma política rigorosa de zero contaminação-cruzada com materiais-de qualidade fotovoltaica.

Tag: camada fina de wafer de silício, fabricantes, fornecedores, fábrica de camada fina de wafer de silício na China