Bolacha de Silício Puro
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Bolacha de Silício Puro

Bolacha de Silício Puro

Nossos Wafers de Silício Puro são produzidos com silício de alta pureza, tornando-os ideais para aplicações de semicondutores que requerem o mínimo de impurezas. Esses wafers fornecem uma base estável e confiável para vários componentes eletrônicos e são frequentemente usados ​​em pesquisas e ambientes de fabricação precisos.

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Introdução de Produto
Visão geral do produto

 

Nossos Wafers de Silício Puro são produzidos com silício de alta pureza, tornando-os ideais para aplicações de semicondutores que requerem o mínimo de impurezas. Esses wafers fornecem uma base estável e confiável para vários componentes eletrônicos e são frequentemente usados ​​em pesquisas e ambientes de fabricação precisos.

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Principais recursos

 

Orientação Cristalina

<100>, <111>, <110>(orientações personalizadas disponíveis)

Diâmetros disponíveis

2 polegadas, 4 polegadas, 6 polegadas, 8 polegadas, 12 polegadas

Notas de qualidade

Prime / Teste / Manequim

Métodos de crescimento

CZ (Czochralski) / FZ (zona flutuante)

Opções de espessura

275 μm, 380 μm, 525 μm, 625 μm, com espessuras personalizadas disponíveis

Resistividade

Normalmente mais alto em comparação com wafers dopados (disponíveis em várias faixas)

Acabamentos de Superfície

P/E (polido/gravado), P/P (polido/polido), E/E (gravado/gravado)

Variação Total da Espessura (TTV)

Padrão < 10 μm; Avançado <5 μm

Arco/Urdidura

Padrão < 40 μm; Avançado <20 μm

 

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